三星电子于 11 月 18 日宣布，在京畿道龙仁市的器兴园区举行了下一代半导体研发 (R&D) 综合体“NRD-K”的设备安装仪式。

　　NRD-K 是三星电子正在建设的面积为 109000 平方米的先进综合研发综合体，以确保未来的半导体技术。研发线将于2025年中期开始全面运营，到2030年总投资将达到20万亿韩元。

　　预计它将配备先进的基础设施，以进行从基础技术研究到所有半导体领域的产品开发，包括存储器、系统和代工。该综合体将引进高分辨率极紫外 (EUV) 光刻设备和新材料沉积设备等尖端生产设备，用于下一代存储半导体开发。此外，它还将实施晶圆键合基础设施，将两个晶圆连接起来以创建创新结构，在先进半导体技术中发挥关键作用。

　　器兴园区是三星电子认真开展半导体业务的标志性地点。它是半导体成功故事的发源地，于 1992 年开发了世界上第一台 64 兆字节 (Mb) DRAM，并于 1993 年在存储半导体领域排名第一。

　　三星电子计划在其半导体业务的发源地器兴建设未来技术研究的核心 NRD-K，并最大限度地发挥技术与组织之间的协同作用，从而创造创新的转折点。尤其是宜兴，它类似于韩国半导体行业的中心，三星电子的半导体工厂周围有众多国内和国际材料、零件和设备公司。

　　三星电子旨在通过建立 NRD-K 将器兴转变为先进半导体产业生态系统的中心，并进一步扩大与合作伙伴公司的研发合作。

　　大约有 100 人参加了此次活动，其中包括负责三星电子半导体业务的副会长 Jeon Young-hyun、设备解决方案 (DS) 部门的主要管理人员、设备合作伙伴的代表以及半导体研究所的员工。Jeon 在纪念词中强调：“通过 NRD-K，我们将建立从下一代半导体技术的基础研究到产品量产的良性循环体系，从而显着提高开发速度。他还表示，“我们将在三星电子半导体业务 50 年历史的起点器兴为新的飞跃奠定基础，创造新的 100 年未来。

关键词：三星电子

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