据传言称，苹果正在为未来的 iPhone 相机测试一种新的抗反射光学涂层技术，该技术可以通过减少镜头眩光和重影等伪影来提高照片质量。

据 Naver 博客上的新闻聚合帐户“yeux1122”援引苹果供应链内的公司消息人士称，苹果正在考虑将新的原子层沉积 (ALD) 设备引入 iPhone 相机镜头制造工艺中。

ALD 涉及在基板上一次沉积一个原子层的材料，从而可以极其精确地控制厚度和成分。 它的使用使得制造商能够将非常薄的材料层应用到半导体设备上，包括相机组件。

就相机镜头而言，ALD 可用于应用抗反射涂层，这有助于减少当太阳等明亮光源直接照射到镜头时，最终图像中可能出现的光条纹和光晕等摄影伪影。 

ALD 还可以减少重影，这是一种图像失真，即照片中出现微弱的二次图像，通常与明亮的光源相对。 当光线在镜头元件和相机传感器的表面之间来回反射时，就会发生这种情况。

此外，ALD 应用的材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，而不会影响传感器有效捕获光线的能力。

Naver 博客声称，该制造工艺将应用于苹果“下一代”iPhone 系列中的“Pro 型号”，这听起来像是指 iPhone 16 系列中的一款或两款高端型号，尽管考虑到了发布的时间。 据传言，这种方法正在明年的 iPhone 17 Pro 机型上进行测试的可能性不应被低估。

两款即将推出的 iPhone 16 Pro 机型预计将配备高达 5 倍光学变焦的四棱镜镜头，该功能目前是苹果智能手机系列中 iPhone 15 Pro Max 独有的功能。 苹果通常会在 9 月中旬左右推出新一代 iPhone。

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